[发明专利]一种基于结构光的干涉反射式光学薄膜显微测量方法有效

专利信息
申请号: 201811166494.5 申请日: 2018-10-08
公开(公告)号: CN109141224B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 岳慧敏;周政;宋一平;方宇耀;黄易杨;刘永 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01B9/04 分类号: G01B9/04;G01B9/02;G01B11/24;G06K9/00
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种基于结构光的干涉反射式光学薄膜显微测量方法,属于光学成像技术领域。包括如下步骤:步骤一、利用结构光作为光源,将结构光通过显微物镜后照射在待测样品表面,待测样品包括透明基底和光学薄膜,光学薄膜包括多个光学膜层,结构光通过待测样品的透明基底后在光学薄膜的多层光学膜层发生反射,所有光学膜层的反射光形成多光束干涉并在透明基底表面形成干涉图样,通过调节显微物镜与待测样品之间的距离在透明基底表面形成清晰的干涉图样;步骤二、拍摄透明基底表面的干涉图样经过显微物镜放大后的变形干涉图样,根据采集的变形干涉图样中各处的光强信息确定光学薄膜对应位置的膜层数量或表面形貌。本发明准确、简单、快速且适用范围广。
搜索关键词: 一种 基于 结构 干涉 反射 光学薄膜 显微 测量方法
【主权项】:
1.一种基于结构光的干涉反射式光学薄膜显微测量方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、利用结构光作为光源,将所述结构光通过显微物镜后照射在待测样品表面,所述待测样品包括透明基底和光学薄膜,所述光学薄膜包括多个光学膜层,结构光通过待测样品的透明基底后在光学薄膜的多层光学膜层发生反射,所有光学膜层的反射光形成多光束干涉并在透明基底表面形成干涉图样,通过调节所述显微物镜与所述待测样品之间的距离在所述透明基底表面形成清晰的干涉图样;步骤二、拍摄所述透明基底表面的干涉图样经过所述显微物镜放大后的变形干涉图样,根据采集的所述变形干涉图样中各处的光强信息确定所述光学薄膜对应位置的膜层数量或表面形貌。
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