[发明专利]邻苯二酚修饰的介孔硅吸附剂、制备方法及其用途有效

专利信息
申请号: 201811138315.7 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN109433157B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 郭翔海;陈远志;白鹏 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: B01J20/22 分类号: B01J20/22;B01J20/30;B01D59/26
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 程小艳
地址: 300350 天津市津南区海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了两种邻苯二酚基团修饰的MCM‑41及SBA‑15介孔硅吸附剂、制备方法及其用途。本发明合成的邻苯二酚修饰的介孔分子筛吸附材料的硼吸附量达到1.799mmol·g‑1,远高于硼吸附特效商业树脂;硼同位素分离因子达到1.158,远高于工业上采用的化学交换精馏法。本发明合成的邻苯二酚基团修饰的介孔硼吸附剂可以通过低浓度醋酸溶液洗脱再生,避免了使用强酸而对设备及人员的造成的伤害。
搜索关键词: 邻苯二酚 修饰 介孔硅 吸附剂 制备 方法 及其 用途
【主权项】:
1.邻苯二酚修饰的介孔硅吸附剂的制备方法,其特征是,包括如下步骤:1)将式(I)化合物、缚酸剂、第一种催化剂和第一种溶剂保护搅拌混合,室温下反应0.5‑2h,加入酚羟基保护试剂,70℃反应6‑24h,得到式(II)化合物;2)将式(II)化合物、甲胺或甲胺溶液、第二种催化剂和第二种溶剂搅拌混合,室温下,反应0.5‑24h,加入硼氢化钠,室温下,反应0.25‑48h,得到式(III)化合物;3)用脱保护基试剂脱除式(IV)化合物中的保护基,得到邻苯二酚基团,结构式为式(IV)所示;4)将式(Ⅴ)介孔材料、3‑溴丙基三甲氧基硅烷(BPTMS)和第三种溶剂混合,搅拌回流12‑24h,得到式(Ⅵ)溴丙基化的介孔分子筛材料;5)将式(Ⅵ)溴丙基化的介孔分子筛材料、式(IV)邻苯二酚基团、缚酸剂、碘化钾和第四种溶剂混合,搅拌回流6‑12h,得到式(Ⅶ)邻苯二酚修饰的介孔分子筛材料;上述反应式如下:其中:R1=H、NO2;R2=苄基、甲氧基甲基、C1‑C6烷基、4‑甲氧基苄基或叔丁基二甲基硅基;R3=C3H6Br;
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