[发明专利]一种釉面不龟裂的长余辉陶瓷及其制作工艺有效
申请号: | 201811080067.5 | 申请日: | 2018-09-17 |
公开(公告)号: | CN109206013B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 李双展;许建星;彭照耀;林志辉;郑长龙;卢迪榛;邱建智 | 申请(专利权)人: | 泉州市陶瓷科学技术研究所 |
主分类号: | C03C8/14 | 分类号: | C03C8/14;C03C8/04;C04B33/13;C04B41/86 |
代理公司: | 泉州君典专利代理事务所(普通合伙) 35239 | 代理人: | 傅家强 |
地址: | 362000 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种釉面不龟裂的长余辉陶瓷及其制作工艺,一种釉面不龟裂的长余辉陶瓷,包括坯体和釉料,釉料包括以下原料:低温釉水、铝酸盐长余辉材料,低温釉水包括以下原料:澳大利亚锂辉石、滑石、石灰石、硼砂、硼酸、德化石英、夕线石、高岭土、氧化锌,低温釉水的原料组成的澳大利亚锂辉石、夕线石的热膨胀系数极小,通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数,使其热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数,制作时,先制作低温釉水与铝酸盐长余辉材料配合使用,煅烧制成的熔块可有效降低釉料的烧成温度,保证釉料的烧结温度在790‑810℃之间,保证釉料中的长余辉材料的发光效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 釉面 龟裂 余辉 陶瓷 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种釉面不龟裂的长余辉陶瓷,其特征在于:包括坯体和釉料;所述釉料包括以下重量份的原料:低温釉水1份、铝酸盐长余辉材料22‑28份;所述低温釉水包括以下重量份的原料:澳大利亚锂辉石18‑22份、滑石9‑13份、石灰石5‑7份、硼砂10‑15份、硼酸28‑32份、德化石英15‑20份、夕线石8‑12份、高岭土1‑5份、氧化锌1‑3份;且低温釉水的化学组成如下:Li2O:1.4‑1.6%、Na2O:1.9‑2.4%、CaO:4.1‑4.9%、MgO:4.3‑5.3%、ZnO:2.1‑2.5%、Al2O3:5.6‑6.9%、SiO2:45.9‑53.1%、B2O3:26.1‑31.9%。
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