[发明专利]一种对X射线纳米级聚焦的可调式波导系统

摘要

本发明涉及电离辐射的处理技术，尤其涉及应用衍射、折射或反射的X射线聚焦装置，具体来说是一种对X射线纳米级聚焦的可调式波导系统，波导系统包括由第一外壳基体和第二外壳基体构成的可进行相对移动的可调式外壳基体，第一外壳基体和第二外壳基体中均固定有结构相同的多层薄膜波导结构，可调式外壳基体整体设置在温度可调腔体中，本发明同现有技术相比，能够使用两个波导结构对X射线进行调节聚焦，克服了传统聚焦装置在生产成型后无法克服制造过程中的误差导致与模拟计算时确定的参数的差异导致的聚焦效果无法达到预期的问题，为进一步提升X射线波导聚焦性能提供了新颖的思路。

主权项

1.一种对X射线纳米级聚焦的可调式波导系统，所述的纳米级聚焦为聚焦后的X射线光斑轮廓的最大直径在45纳米以下，其特征在于：所述的波导系统包括由第一外壳基体(3)和第二外壳基体(7)构成的可调式外壳基体，第一外壳基体和第二外壳基体可进行相对移动，第一外壳基体和第二外壳基体中均固定有结构相同的多层薄膜波导结构，多层薄膜为两种材料交替设置，两种材料中的一种材料为导通材料(5,9)，所述导通材料使X射线通过，另一种材料作为所述导通材料的间隔层(4,8)，所述导通材料为碳薄膜，间隔层材料为过渡金属元素，所述多层薄膜的最外层为间隔层材料，间隔层材料与外壳基体固定连接，所述外壳基体的材料为硅或锗，所述可调式外壳基体整体设置在温度可调腔体(1)中，所述温度可调腔体的温度调节范围为30摄氏度‑800摄氏度。