[发明专利]突釉及其制备方法在审
| 申请号： | 201811077103.2 | 申请日： | 2018-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN109111113A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 姚威;谭建华;杨三喜;罗建平 | 申请（专利权）人： | 湖南高峰陶瓷制造有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C04B41/89 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 412200 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种突釉及其制备方法，突釉包括底釉和划或点在底釉上的面釉；其中，所述面釉含有的组分及各组分质量份如下：钠长石20‑40份；石英10‑20份；粘士5‑7份；方解石10‑15份；碳酸钡5‑7份；硅酸锆5‑10份；粘剂粉0.5‑2份；所述底釉含有的组分及各组分质量份如下：钾长石20‑30份；钠长石25‑30份；方解石16‑18份；碳酸钡6‑8份；石英25‑30份；粘士10‑15份；氧化锌3‑5份。本发明的釉面以仿线条带点为主体，并且给人一种像磁铁一样，能深深吸附着在釉层的表面而屹立不倒的感觉。 | ||
| 搜索关键词： | 底釉 方解石 钠长石 碳酸钡 质量份 石英 面釉 粘士 制备 硅酸锆 钾长石 氧化锌 磁铁 不倒 吸附 釉层 釉面 粘剂 线条 | ||
【主权项】：
1.一种突釉，其特征在于它包括底釉和划或点在底釉上的面釉；其中，所述面釉含有的组分及各组分质量份如下：钠长石20‑40份；石英10‑20份；粘士5‑7份；方解石10‑15份；碳酸钡5‑7份；硅酸锆5‑10份；粘剂粉0.5‑2份；所述底釉含有的组分及各组分质量份如下：钾长石20‑30份；钠长石25‑30份；方解石16‑18份；碳酸钡6‑8份；石英25‑30份；粘士10‑15份；氧化锌3‑5份。
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