[发明专利]一种用于ITO热转印图案化刻蚀方法在审
| 申请号： | 201811040480.9 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN110890463A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 彭应全;吕文理;杨玉环;丁思晗 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于ITO基底的热转印图案化刻蚀方法，包括以下步骤：(1)利用打印机在热转印纸上打印需要刻蚀的图案，并将打印了图案的热转印纸贴在ITO基底上进行热转印；(2)将热转之后的ITO基底用强酸溶液进行快速腐蚀；(3)脱去热转印图案的油墨层，进行清洗和干燥，从而得到图案化刻蚀的ITO基底。本发明可用于非柔性和柔性衬底上ITO的图案化刻蚀，热转印图案化刻蚀方法具有操作工艺简单、成本低等优点，且能够实现精细复杂的刻蚀图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 ito 热转印 图案 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
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