[发明专利]用于蒸镀的辅助装置、方法及蒸镀系统有效
申请号: | 201811023856.5 | 申请日: | 2018-09-04 |
公开(公告)号: | CN109234683B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 金政泽;杨春梅 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54;C23C14/04 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生辉 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种用于蒸镀的辅助装置、方法及蒸镀系统。该辅助装置包括:角度限制板,所述角度限制板包括分别位于蒸镀喷嘴的两侧的第一本体部和第二本体部;检测单元,检测所述第一本体部和/或第二本体部一侧端面上蒸镀颗粒的累积高度是否超过预定阈值;以及控制单元,若蒸镀颗粒的累积高度超过预定阈值,则控制所述角度限度板移动。通过在角度限制板上方设置检测单元,检测单元检测角度限制板上蒸镀颗粒的累积高度,从而在角度限制板上累积的蒸镀颗粒达到一定程度时,可通过移动角度限制板使得蒸镀材料掉落在蒸镀源的外侧,可以有效避免蒸镀颗粒在角度限制板上的累积,从而避免喷嘴的喷射角度发生变化导致基板上图案不均匀的问题。 | ||
搜索关键词: | 用于 辅助 装置 方法 系统 | ||
【主权项】:
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