[发明专利]脱离控制方法和等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201810995793.3 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN109427534B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木康晴;平井克典;佐佐木淳一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种容易进行被处理体从静电卡盘的脱离的脱离控制方法和等离子体处理装置。使被静电吸附于静电卡盘的被处理体脱离的脱离控制方法具有以下工序：在利用支承机构升起所述被处理体的期间，一边向静电卡盘的电极施加规定的静电电压一边使被处理体脱离。 | ||
| 搜索关键词： | 脱离 控制 方法 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种脱离控制方法，使被静电吸附于静电卡盘的被处理体脱离，该脱离控制方法具有以下工序：在利用支承机构升起所述被处理体的期间，一边向静电卡盘的电极施加规定的静电电压一边使被处理体脱离。
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