[发明专利]一种高性能屏蔽片、制备方法及其线圈模组有效

专利信息
申请号: 201810941671.6 申请日: 2018-08-17
公开(公告)号: CN109152317B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 徐可心;林涛;吴长和;王劲;郭庆文;胡会新;马飞;杨旭;霍云芳;钱江华 申请(专利权)人: 无锡蓝沛新材料科技股份有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H02J50/70;H01F27/36
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 214174 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种高性能屏蔽片,包括至少一个薄片,所述薄片包括:至少一层屏蔽层,所述屏蔽层为软磁材料形成,所述屏蔽层为低矫顽力、低剩磁屏蔽层;至少一层胶层,所述胶层设置在所述屏蔽层的至少一面;所述屏蔽层包括复数个图形化缝隙,所述缝隙将所述屏蔽层分割成复数个图形化碎片;所述胶层填充在所述缝隙中,使所述碎片相互隔离并绝缘。还涉及一种高性能屏蔽片制备方法。还涉及一种屏蔽层制备方法。还涉及一种由高性能屏蔽片构成的线圈模组。其优点在于,屏蔽片由低矫顽力、低剩磁屏蔽层构成,能够诱导并束缚更多的磁力线通过,从而提高电充转化率和充电效率;利用低矫顽力、低剩磁屏蔽层,可以减少传输损耗和提高电磁波传输介质均匀性。
搜索关键词: 一种 性能 屏蔽 制备 方法 及其 线圈 模组
【主权项】:
1.一种高性能屏蔽片,其特征在于,包括至少一个薄片,所述薄片包括:至少一层屏蔽层,所述屏蔽层为软磁材料形成,所述屏蔽层为低矫顽力、低剩磁屏蔽层;至少一层胶层,所述胶层设置在所述屏蔽层的至少一面;所述屏蔽层包括复数个图形化缝隙,所述缝隙将所述屏蔽层分割成复数个图形化碎片;所述胶层填充在所述缝隙中,使所述碎片相互隔离并绝缘。
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