[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201810923288.8 申请日: 2018-08-14
公开(公告)号: CN109390446B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 成演准;朴真秀;崔洛俊 申请(专利权)人: 苏州立琻半导体有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/24
代理公司: 苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502 代理人: 滕锦林
地址: 215499 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实施例公开了一种半导体器件,包括:发光结构,包括第一导电半导体层、第二导电半导体层和有源层;第一电极,电连接至第一导电半导体层;第二电极,电连接至第二导电半导体层;第一覆盖电极,设置在第一电极上;以及绝缘层,设置在第一电极与第二电极之间,其中绝缘层包括设置在第一导电半导体层与第一覆盖电极之间的第一绝缘部以及设置在第一覆盖电极上的第二绝缘部,其中第一覆盖电极包括设置在第一绝缘部的上表面与第二绝缘部的下表面之间的第一突起部。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:发光结构,包括第一导电半导体层、第二导电半导体层和有源层;第一电极,电连接至所述第一导电半导体层;第二电极,电连接至所述第二导电半导体层;第一覆盖电极,设置在所述第一电极上;以及绝缘层,设置在所述第一电极与所述第二电极之间,其中所述绝缘层包括设置在所述第一导电半导体层与所述第一覆盖电极之间的第一绝缘部以及设置在所述第一覆盖电极上的第二绝缘部,其中所述第一覆盖电极包括设置在所述第一绝缘部的上表面与所述第二绝缘部的下表面之间的第一突起部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州立琻半导体有限公司,未经苏州立琻半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810923288.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top