[发明专利]基于多层闪烁晶体探测器的系统均匀性校正方法及装置有效
| 申请号： | 201810922426.0 | 申请日： | 2018-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN109212582B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 吕振雷;刘亚强;江年铭;许天鹏;刘迈 | 申请（专利权）人： | 北京永新医疗设备有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 102206 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于多层闪烁晶体探测器的系统均匀性校正方法及装置，其中，方法包括以下步骤：根据晶体的排列信息和探测器系统的设计信息对多个系统均匀性的影响因素分别建立因素模型；利用探测器系统对用于均匀性矫正的实体模型进行数据采集，以得到实验数据；对实验数据进行重组和处理，以分别获取均匀性校正中每项因素模型的相关参数；整合每项因素模型的相关参数生成均匀性校正表，并根据均匀性校正表对基于探测器的系统进行均匀性校正。该方法可以对基于多层闪烁晶体探测器的成像系统的均匀性进行校正，从而提高成像系统的图像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 多层 闪烁 晶体 探测器 系统 均匀 校正 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基于多层闪烁晶体探测器的系统均匀性校正方法，其特征在于，包括以下步骤：根据晶体的排列信息和探测器系统的设计信息对多个系统均匀性的影响因素分别建立因素模型；利用所述探测器系统对用于均匀性矫正的实体模型进行数据采集，以得到实验数据；对所述实验数据进行重组和处理，以分别获取均匀性校正中每项因素模型的相关参数；以及整合所述每项因素模型的相关参数生成均匀性校正表，并根据所述均匀性校正表对基于探测器的系统进行均匀性校正。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京永新医疗设备有限公司，未经北京永新医疗设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810922426.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
