[发明专利]用于X射线荧光分析法测量硅铁中硅含量的试样的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810895840.7 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN108918562A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 齐超群;郑昌清;高三军;李雪松;张宁;张娜;韩爱丽;黄正一;李宏亮 申请(专利权)人: 唐山瑞丰钢铁(集团)有限公司
主分类号: G01N23/2202 分类号: G01N23/2202;G01N23/223
代理公司: 唐山永和专利商标事务所 13103 代理人: 张云和
地址: 063300 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明涉及一种用于X射线荧光分析法测量硅铁中硅含量的试样的制备方法。包括一次配料、预氧化、二次配料、熔融,一次配料是用滤纸及混合氧化剂包裹硅铁试样,将试料包裹成球状;预氧化是将坩埚内填满石墨并将球状试料放入石墨凹坑中,然后在高温马弗炉内氧化成椭球状试料;二次配料是在铂金器皿铺碘化铵脱模剂,放置冷却好的椭球状试料,用四硼酸锂和偏硼酸混合熔剂覆盖椭球状试料;熔融是将铂金器皿放入熔片机内,在900℃~1050℃温度状态下熔融19min后得到熔片即为试样,可直接用于X射线光谱分析仪进行分析。本发明可多样同时制作且过程可控性简单,试验耗时短,制作成本低,X射线荧光分析结果准确度高。
搜索关键词: 试料 椭球状 硅铁 熔融 一次配料 石墨 预氧化 器皿 铂金 放入 熔片 制备 测量 混合氧化剂 结果准确度 放置冷却 混合熔剂 四硼酸锂 温度状态 碘化铵 分析仪 可控性 马弗炉 内氧化 偏硼酸 脱模剂 凹坑 滤纸 填满 坩埚 制作 耗时 试验 覆盖 分析
【主权项】:
1.一种用于X射线荧光分析法测量硅铁中硅含量的试样的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:a.一次配料:将制作好的滤纸放置在电子天平内并去掉皮重,然后在滤纸上按顺序称量0.8~1.8份硼酸和2.0~4.0份无水碳酸钠并搅拌均匀形成混合氧化剂,加入0.2份硅铁试样置于混合氧化剂上部中间位置,再用混合氧化剂完全覆盖,然后用滤纸将试料包裹成球状;b.预氧化:将坩埚内填满石墨并进行中间压实形成凹坑,将包裹好的试料放入凹坑中,先将坩埚放入低温马弗炉内烘干15min去除水份防止预氧化时发生喷溅,然后再将坩埚放入高温马弗炉内,关闭马弗炉后保持高温状态45min,最后打开马弗炉取出氧化成椭球状的试料,在室温下冷却;c.二次配料:在铂金器皿中倒入1.2~4.0份碘化铵铺底做脱模剂,其上放置冷却好的椭球状试料,并用6~8份四硼酸锂和偏硼酸混合熔剂覆盖椭球状试料,混合熔剂中,四硼酸锂67%,偏硼酸33%;d.熔融:将铂金器皿放入熔片机内,在900℃~1050℃温度状态下熔融19min,取出、静置冷却,得到熔片,熔片冷却后即为直接用于X射线光谱分析仪进行分析的试样。
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