[发明专利]平面内埋薄膜电阻PCB板及其加工工艺在审

专利信息
申请号: 201810889951.7 申请日: 2018-08-07
公开(公告)号: CN108990270A 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 马洪伟;杨飞 申请(专利权)人: 江苏普诺威电子股份有限公司
主分类号: H05K1/16 分类号: H05K1/16;H05K3/14
代理公司: 昆山中际国创知识产权代理有限公司 32311 代理人: 张文婷
地址: 215300 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种平面内埋薄膜电阻PCB板的加工工艺,包括以下步骤:先在PCB基板的铜箔层上需要制作电阻的位置蚀刻掉铜箔层,获得形成在PCB基板的介质材料层上的电阻图形,该电阻图形的长度和需要制作的电阻的长度一致,该电阻图形的宽度大于需要制作的电阻的宽度;步骤2,在电阻图形上喷涂电阻浆料,并延时固化,形成电阻薄膜的雏形;步骤3,采用镭射激光将喷涂过程中电阻浆料的边缘扩散部分清除掉,得到边缘整齐的喷印薄膜电阻。该平面内埋薄膜电阻PCB板及其加工工艺解决了现有技术采用整版埋阻材料成本高的问题,以及解决了现有技术采用整版埋阻材料导致的叠构限制,具有工艺简单,制作成本低有优点。
搜索关键词: 薄膜电阻 电阻图形 电阻 内埋 电阻浆料 技术采用 制作 铜箔层 蚀刻 介质材料层 边缘扩散 材料成本 长度一致 电阻薄膜 镭射激光 喷涂过程 除掉 喷涂 喷印 延时 固化 整齐
【主权项】:
1.一种平面内埋薄膜电阻PCB板的加工工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,先在PCB基板的铜箔层(1)上需要制作电阻的位置蚀刻掉铜箔层,获得形成在PCB基板的介质材料层(2)上的电阻图形(3),该电阻图形的长度和需要制作的电阻的长度一致,该电阻图形的宽度大于需要制作的电阻的宽度;步骤2,在所述电阻图形(3)上喷涂电阻浆料,并延时固化,形成电阻薄膜的雏形;步骤3,采用镭射激光将喷涂过程中所述电阻浆料的边缘扩散部分清除掉,得到边缘整齐的喷印薄膜电阻(4)。
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