[发明专利]一种氮掺杂的高附着性高硬度纳米结构W基涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201810850006.6 | 申请日： | 2018-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN109082640B | 公开（公告）日： | 2021-01-19 |
| 发明（设计）人： | 匡同春;彭小珊;张子威;黎毓灵;邓阳;王毅;陈灵;雷淑梅;周克崧;钟喜春;曾德长 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 何淑珍;冯振宁 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氮掺杂的高附着性高硬度纳米结构W基涂层及其制备方法，该纳米结构W基涂层中各元素原子百分比为：N：1%~6%；W：94%~99%，该涂层采用高功率脉冲磁控溅射技术制备，适用于硬质合金刀具表面。通过掺杂小原子N元素，调控涂层晶粒尺寸大小和缺陷数量，得到硬质合金上附着性强、硬度高的纳米结构W基涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掺杂 附着 硬度 纳米 结构 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氮掺杂的高附着性高硬度纳米结构W基涂层，其特征在于，由纳米结构W(N)涂层组成；所述纳米结构W(N)涂层中各元素原子百分比为N：1%~6%，W：94%~99%；所述纳米结构W基涂层为高功率脉冲磁控溅射技术沉积的纳米结构W基涂层。
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