[发明专利]光阻涂布装置

摘要

本发明提供一种光阻涂布装置，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。

主权项

1.一种光阻涂布装置，其特征在于，包括光阻涂布机构、两个光阻残留去除结构、清洗液罐以及热风机；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器的底壁连接，该光阻存储器的底壁上开设有条状出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该条状出口连通的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度且等于该条状出口的长度；该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；该两个光阻残留去除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧；所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通，该热风机通过排风管与该风嘴连通，该排液管上还设置有流量控制阀，以控制清洗液的流量，在多次清洗中分别采用不同的流量进行清洗；所述光阻存储器设置有自动搅拌器，用于对其中的光阻进行搅拌。