[发明专利]羧酸的制造方法在审

专利信息
申请号: 201810817227.3 申请日: 2014-01-24
公开(公告)号: CN108840798A 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 三浦裕幸;清水雅彦;上野贵史 申请(专利权)人: 株式会社大赛璐
主分类号: C07C51/42 分类号: C07C51/42;C07C51/44;C07C53/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种制造所含的金属杂质和/或含羰基杂质被高度除去的高纯度羧酸的方法及制造装置。在本发明的羧酸的制造方法中,将含有含金属杂质的羧酸的液流(stream)供于第1闪蒸系统1使其气化,将气化后的馏分供于蒸馏系统5,分离主要含有羧酸的液流和含有高挥发性杂质(或低沸杂质)的馏分,将分离出来的主要含有羧酸的液流进一步供给至第2闪蒸系统10或吸附系统,回收纯化后的羧酸。
搜索关键词: 羧酸 液流 金属杂质 闪蒸系统 气化 制造 高挥发性 吸附系统 蒸馏系统 制造装置 羰基杂质 高纯度 回收
【主权项】:
1.一种羧酸的制造方法,其包括:将含有含金属杂质的第1羧酸液流供于第1闪蒸系统而使其气化,将气化后的馏分供于蒸馏系统来分离主要含有羧酸的第2羧酸液流和含有高挥发性杂质的馏分,将所述第2羧酸液流进一步供给至第2闪蒸系统或吸附系统,除去由于金属制单元和/或金属制管线发生腐蚀而产生的含腐蚀金属杂质,生成纯化后的第3羧酸的工序,其中,将所述第1羧酸液流直接供给到第1闪蒸系统,将来自第1闪蒸系统的气化馏分直接供给到蒸馏系统,在所述蒸馏系统中,将来自所述第1闪蒸系统的气化馏分在多个蒸馏塔中进行蒸馏,以下部流或侧流的方式抽取所述第2羧酸液流,在所述第2闪蒸系统中,使所述第2羧酸液流气化,从第2闪蒸系统的上部或顶部回收纯化后的第3羧酸,从第2闪蒸系统的下部分离含有含腐蚀金属杂质的低挥发性或不挥发性成分,所述吸附系统的吸附剂包含活性炭、硅胶以及沸石中的至少一种,在所述吸附系统中,对所述第2羧酸液流进行吸附处理,除去所述含腐蚀金属杂质,生成纯化后的第3羧酸液流,通过离子交换系统对来自所述第2闪蒸系统或吸附系统的纯化后的第3羧酸液流进行处理,生成含卤代烷的卤化物被除去的第4羧酸液流,所述离子交换系统含有用选自银、水银以及铜中的至少一种金属进行了置换或交换而成的阳离子交换树脂,温度为17~100℃,且阶段性地依次升温5~15℃。
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