[发明专利]一种基于离子反应能够自清洗的集成灶

摘要

本发明公开了一种基于离子反应能够自清洗的集成灶，涉及集成灶技术领域。该基于离子反应能够自清洗的集成灶，包括集成灶，所述集成灶两侧的底部对称固定连接有滑板，集成灶的底部固定连接有承载板，集成灶的底部设置有支撑台，支撑台顶部的正中开设有凹槽，凹槽内壁的底部设置有升降机构，凹槽内壁两侧的顶部对称开设有滑动槽，支撑台一侧面的底部设置有输送机构。该基于离子反应能够自清洗的集成灶，通过设置的滑板、承载板、支撑台、凹槽、升降机构、滑动槽、输送机构的配合，达到升降集成灶的目的，为不同身高的人使用集成灶提供便利，解决了集成灶的高度一成不变，并不能适合不同身高的人进行烹饪的问题。

主权项

1.一种基于离子反应能够自清洗的集成灶，包括集成灶(1)，其特征在于：所述集成灶(1)两侧的底部对称固定连接有滑板(2)，集成灶(1)的底部固定连接有承载板(3)，集成灶(1)的底部设置有支撑台(4)，支撑台(4)顶部的正中开设有凹槽(5)，凹槽(5)内壁的底部设置有升降机构(6)，凹槽(5)内壁两侧的顶部对称开设有滑动槽(7)，支撑台(4)一侧面的底部设置有输送机构(8)。