[发明专利]一种基于离子反应能够自清洗的集成灶

说明书

本发明公开了一种基于离子反应能够自清洗的集成灶，涉及集成灶技术领域。该基于离子反应能够自清洗的集成灶，包括集成灶，所述集成灶两侧的底部对称固定连接有滑板，集成灶的底部固定连接有承载板，集成灶的底部设置有支撑台，支撑台顶部的正中开设有凹槽，凹槽内壁的底部设置有升降机构，凹槽内壁两侧的顶部对称开设有滑动槽，支撑台一侧面的底部设置有输送机构。该基于离子反应能够自清洗的集成灶，通过设置的滑板、承载板、支撑台、凹槽、升降机构、滑动槽、输送机构的配合，达到升降集成灶的目的，为不同身高的人使用集成灶提供便利，解决了集成灶的高度一成不变，并不能适合不同身高的人进行烹饪的问题。

技术领域

本发明涉及集成灶技术领域，具体为一种基于离子反应能够自清洗的集成灶。

背景技术

集成灶是一种集吸油烟机、燃气灶、消毒柜、储藏柜等多种功能于一体的厨房电器，具有节省空间、抽油烟效果好，节能低耗环保等优点。传统集成灶在使用一段时间后内部容易聚集较多油污，针对这一缺点出现了通过增设自动清洗结构，并优化清洗结构中的供水集水、加热、喷射结构通过离子反应达到有效清洁效果的带有自清洗功能的集成灶。然而这种集成灶的高度是一成不变，并不能适合不同身高的人进行烹饪。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种基于离子反应能够自清洗的集成灶，解决了集成灶的高度一成不变，并不能适合不同身高的人进行烹饪的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种基于离子反应能够自清洗的集成灶，包括集成灶，所述集成灶两侧的底部对称固定连接有滑板，集成灶的底部固定连接有承载板，集成灶的底部设置有支撑台，支撑台顶部的正中开设有凹槽，凹槽内壁的底部设置有升降机构，凹槽内壁两侧的顶部对称开设有滑动槽，支撑台一侧面的底部设置有输送机构。

优选的，所述升降机构包括支撑架，支撑架的内部设置有分流盘，分流盘的两侧对称设置有输送管，分流盘的顶部设置有引导管，支撑架的两侧对称设置有传动装置。

优选的，所述输送机构包括储水箱，储水箱顶部的一侧设置有进料管，储水箱内壁底部的正中固定连接有潜水泵，储水箱另一侧面的正中设置有密封圈，潜水泵一侧面的顶部固定连接有送水管。

优选的，所述传动装置包括支撑柱、第一传动柱、第二传动柱和抵柱，支撑柱内壁两侧的中部对称开设有第一滑槽，支撑柱顶部的正中设置有第一限位圈，第一传动柱两侧的底部对称固定连接有第一滑块，第一传动柱内壁两侧的中部对称开设有第二滑槽，第一传动柱顶部的正中设置有第二限位圈，第二传动柱两侧的底部对称固定连接有第二滑块，第二传动柱内壁两侧的中部对称开设有第三滑槽，第二传动柱顶部的正中设置有第三限位圈，抵柱两侧的底部对称固定连接有第三滑块。

优选的，所述集成灶的底部延伸至凹槽的内部并贴合凹槽的内壁，滑板远离集成灶一端的中部向内凹陷，滑动槽内壁远离集成灶一侧面的中部固定连接有引导轨道，滑板的一端延伸至滑动槽的内部并与滑动槽相契合。

优选的，所述支撑架固定连接在凹槽内壁底部的正中，输送管的一端贯穿分流盘并延伸至分流盘的内部，输送管与分流盘的壁体固定连接，输送管的另一端贯穿支撑架并延伸至支撑架的外部，输送管与支撑架的壁体固定连接，引导管的一端贯穿分流盘的侧面并延伸至分流盘的内部，引导管与分流盘的壁体固定连接，引导管的另一端贯穿支撑架的顶部并延伸至支撑架的外部，引导管与支撑架的壁体固定连接。

优选的，所述储水箱固定连接在支撑台一侧面的底部，进料管贯穿储水箱并延伸至储水箱的内部，进料管与储水箱的壁体固定连接，密封圈贯穿储水箱并延伸至储水箱的内部，密封圈与储水箱的壁体固定连接，送水管的一端贯穿密封圈及支撑台的壁体并延伸至凹槽的内部与引导管的另一端固定连接，送水管与密封圈相贴合。