[发明专利]一种平面研磨盘在审
| 申请号： | 201810814910.1 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN108857944A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张勇斌;袁伟然;李建原;刘广民;王锋;王卿;胡波 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | B24D7/06 | 分类号： | B24D7/06 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种平面研磨盘，所述的研磨盘包括上半块、弹性垫圈、下半块和油石；所述的上半块、弹性垫圈和下半块从上到下依次叠加，沿周向通过均匀分布的螺钉固定成一个整体，上半块的顶部有悬伸端与机床主轴连接，下半块有圆形空腔，内嵌油石；螺钉的长度小于上半块、弹性垫圈和下半块的厚度。本发明的平面研磨盘通过弹性垫圈的弹性和螺钉的旋合调节下半块的平面姿态，从而微调油石的平面姿态，进一步提高了研磨加工零件的平面度。本发明的平面研磨盘结构简单，操作方便，有效地提高了研磨质量。 | ||
| 搜索关键词： | 半块 平面研磨盘 弹性垫圈 油石 平面姿态 螺钉 从上到下 机床主轴 螺钉固定 研磨加工 依次叠加 圆形空腔 研磨 平面度 悬伸端 研磨盘 有效地 内嵌 微调 旋合 | ||
【主权项】：
1.一种平面研磨盘，其特征在于：所述的研磨盘包括上半块（1）、弹性垫圈（2）、下半块（3）和油石（4）；所述的上半块（1）、弹性垫圈（2）和下半块（3）从上到下依次叠加，沿周向通过均匀分布的螺钉（5）固定成一个整体，上半块（1）的顶部有悬伸端与机床主轴连接，下半块（3）有圆形空腔，内嵌油石（4）；螺钉（5）的长度小于上半块（1）、弹性垫圈（2）和下半块（3）的厚度。
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