[发明专利]一种平面研磨盘在审
申请号: | 201810814910.1 | 申请日: | 2018-07-24 |
公开(公告)号: | CN108857944A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 张勇斌;袁伟然;李建原;刘广民;王锋;王卿;胡波 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
主分类号: | B24D7/06 | 分类号: | B24D7/06 |
代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 翟长明;韩志英 |
地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半块 平面研磨盘 弹性垫圈 油石 平面姿态 螺钉 从上到下 机床主轴 螺钉固定 研磨加工 依次叠加 圆形空腔 研磨 平面度 悬伸端 研磨盘 有效地 内嵌 微调 旋合 | ||
1.一种平面研磨盘,其特征在于:所述的研磨盘包括上半块(1)、弹性垫圈(2)、下半块(3)和油石(4);所述的上半块(1)、弹性垫圈(2)和下半块(3)从上到下依次叠加,沿周向通过均匀分布的螺钉(5)固定成一个整体,上半块(1)的顶部有悬伸端与机床主轴连接,下半块(3)有圆形空腔,内嵌油石(4);螺钉(5)的长度小于上半块(1)、弹性垫圈(2)和下半块(3)的厚度。
2.根据权利要求1所述的平面研磨盘,其特征在于:所述的弹性垫圈(2)的材料为聚氨酯。
3.根据权利要求1所述的平面研磨盘,其特征在于,所述的螺钉(5)为内六角圆柱头螺钉。
4.根据权利要求1所述的平面研磨盘,其特征在于:所述的螺钉(5)分为2组,一组螺钉(5)的一端在上半块(1)开沉头孔(6),另一端在下半块(3)对应开螺纹孔(7),另一组螺钉(5)的一端在上半块(1)开螺纹孔(7),另一端在下半块(3)对应开沉头孔(6),两组螺钉(5)交错均匀分布。
5.根据权利要求1所述的平面研磨盘,其特征在于:所述的螺钉(5)为1组,螺钉(5)的一端在上半块(1)开沉头孔(6),另一端在下半块(3)对应开螺纹孔(7),或者螺钉(5)的一端在上半块(1)开螺纹孔(7),另一端在下半块(3)对应开沉头孔(6)。
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