[发明专利]可转移键合PDMS基纳米结构制备方法

摘要

本发明公开了可转移键合PDMS基纳米结构制备方法，首先在刚性基底上旋涂一种可被有机溶剂如丙酮等溶解的牺牲层；然后在所制作的牺牲层表面旋涂一层PDMS，固化后在PDMS上面通过干涉光刻的方法制作出周期性纳米图形；再将制作好的图形进行刻蚀，得到图形化了的PDMS。将刻蚀好的PDMS放入丙酮等有机溶剂中，将牺牲层溶解，最终得到具有纳米图形的可转移可键合的PDMS薄膜。本发明使用干涉光刻的方法制备周期性纳米图形，极大的提高了效率。相较于现有的几种制备柔性材料微纳结构的方法，干涉光刻具有速度快，成本低，面积大，易于调节周期及占空比的优点。大大降低了制作过程中薄膜释放的操作难度，提高了薄膜制作的成功率，社会效益及经济效益十分显著。

主权项

1.可转移键合PDMS基纳米结构制备方法，其特征在于：首先在刚性基底上旋涂一种能够被有机溶剂如丙酮溶解的牺牲层；然后在所制作的牺牲层的表面旋涂一层PDMS薄膜，PDMS薄膜固化后，在PDMS薄膜表面通过干涉光刻的方法制作图形；再将制作好的图形进行刻蚀，得到图形化后的PDMS薄膜；最后，将刻蚀好的PDMS薄膜放入丙酮有机溶剂中，将牺牲层溶解，得到PDMS薄膜。