[发明专利]对图案化结构的基于X射线的测量有效
| 申请号： | 201810790022.0 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN109283203B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 吉拉德·巴拉克 | 申请（专利权）人： | 诺威有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20;G01N23/207 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超;刘彬 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了对图案化结构的基于X射线的测量。呈现一种用于图案化结构上的基于X射线的测量的方法和系统。该方法包括：处理指示对应于图案化结构对入射X射线辐射的检测辐射响应的测量信号的数据，并且从所述数据中减去基本上无背景噪声的有效测量信号，所述有效测量信号由反射衍射级的辐射分量形成，使得有效测量信号的基于模型解释使能够确定图案化结构的一个或多个参数，其中，所述处理包括：分析测量信号并且从中提取对应于背景噪声的背景信号；以及向测量信号应用过滤处理以从中减去对应于背景信号的信号，产生有效测量信号。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 结构 基于 射线 测量 | ||
【主权项】：
1.一种用于对图案化结构的基于X射线的测量的方法，所述方法包括：处理指示与图案化结构对入射X射线辐射的检测辐射响应相对应的测量信号的数据，并且从所述数据中减去基本上无背景噪声的有效测量信号，所述有效测量信号由反射衍射级的辐射分量形成，使得所述有效测量信号的基于模型解释能够实现确定所述图案化结构的一个或多个参数，其中，所述处理包括：分析所述测量信号并且从所述测量信号中提取与所述背景噪声对应的背景信号；以及向所述测量信号应用过滤处理以从所述测量信号中减去与所述背景信号对应的信号，产生所述有效测量信号。
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