[发明专利]一种精确测量相距微小距离下两处磁场一致性的方法有效

专利信息
申请号: 201810778739.3 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN109116275B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 亓鲁;房建成;全伟;肖志松 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G01R33/10 分类号: G01R33/10;G01R33/032
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;卢纪
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种利用原子干涉仪精确测量相距微小距离下两处磁场一致性的方法,构建一种原子干涉回路,通过测量磁场中相距微小距离的两个相干原子波包一致性的演化,来评估两处磁场的一致性。其中,两个相干原子波包的距离长短和方向可以精确控制,控制精度可达纳米量级。相比于传统采用磁强计进行测量的方法,本发明具有测量分辨率高、测量量程可控等优点。可应用于量子计算、量子模拟、量子精密测量等实验中关于原子囚禁场一致性的分析和量子系统退相干机制的研究,具有重要的实用价值。
搜索关键词: 一种 精确 测量 相距 微小 距离 下两处 磁场 一致性 方法
【主权项】:
1.一种利用原子干涉仪精确测量相距微小距离下两处磁场一致性的方法,其特征在于:构建一种外态原子干涉回路,通过测量磁场中相距微小距离的两个相干原子波包一致性的演化,来评估两处磁场的一致性,其中,测量的微小距离尺度可达纳米量级。
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