[发明专利]一种光催化制氢器件有效

专利信息
申请号: 201810753779.2 申请日: 2018-07-10
公开(公告)号: CN108862189B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 高超;彭蠡;沈颖;俞丹萍;卡西克燕.戈坡塞米 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01B3/04 分类号: C01B3/04
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 黄欢娣;邱启旺
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种光催化制氢器件,具有两层结构,其中一层为硅层,另一层为石墨烯层,石墨烯层与硅层贴合;石墨烯层厚度不大于20nm,石墨烯层间交联,交联度在1‑5%,薄膜厚度20nm以内,有一定的透光率,可以为硅所吸收,并且石墨烯/硅界面层存在,光在界面层反复折射,增加了光吸收和转化,为光催化产氢提供条件。
搜索关键词: 一种 光催化 器件
【主权项】:
1.一种光催化制氢器件,其特征在于,具有两层结构,其中一层为硅层,另一层为石墨烯层,石墨烯层与硅层贴合;石墨烯层厚度不大于20nm,石墨烯层间交联,交联度在1‑5%,通过以下方法制备得到:(1)将氧化石墨烯配制成浓度为0.5‑10ug/mL氧化石墨烯水溶液,抽滤成膜;(2)将贴附于抽滤基底上的氧化石墨烯膜置于密闭容器中,80‑100度HI高温从底部往上熏蒸0.1‑1h;(3)将融化的固体转移剂均匀涂敷在还原氧化石墨烯膜表面,并于室温下冷却,直至薄膜和基底分离;(4)对步骤3处理后的还原氧化石墨烯膜进行加热处理,使得固体转移剂升华或者挥发;(5)将还原氧化石墨烯膜以1℃/min升温300℃(缓慢加热,增加石墨烯膜表面褶皱扩展单位空间内石墨烯膜的面积);然后10℃/min升温置于2000℃,保温6‑12小时,以去除石墨烯内部绝大部分原子缺陷,但不恢复石墨烯内部堆叠结构;(6)采用磁控溅射的方式在步骤5处理后的石墨烯膜表面喷涂一层金属纳米粒子;所述金属纳米粒子选自钛、钨、铁、镁、钼,溅射的金属纳米粒子的摩尔量不大于石墨烯膜中碳原子摩尔量的30%,然后在800‑1200℃下将溅射有金属纳米粒子的石墨烯膜进行氯化处理,使得金属纳米粒子以氯化物形式逸散,(7)将氯化后的石墨烯膜在2000℃高温处理,得到层间交联的石墨烯膜;(8)将层间交联的石墨烯膜平铺于硅基底上,制成2×2cm2的器件。
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