[发明专利]一种高电阻率合金薄膜材料及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201810711099.4 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN108914074A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 方峰;刘晓东;霍文燚;张旭海;胡显军 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 唐循文 |
| 地址： | 211189 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
一种高电阻率合金薄膜材料及其制备方法和应用，室温下，清洗基底，用氮气吹干；将基底固定在样品台上，放入磁控溅射室，调节靶基距；将CoCrFeNi合金靶材或由Fe、Ni、Co、Cr组合靶材安装在磁控溅射室内；将磁控溅射室进行抽真空处理，并达到本底真空；将磁控溅射室通入工作气体，调节真空度到工作气压，启动溅射电源，进行预溅射；再对基底进行溅射沉积制得合金薄膜材料。经测试，结果表明本发明材料电阻率可高达335μΩ·cm，饱和磁化强度可达362.06emu |
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| 搜索关键词： | 磁控溅射 合金薄膜材料 制备方法和应用 高电阻率 电阻率 基底 抽真空处理 饱和磁化 本底真空 氮气吹干 发明材料 工作气体 工作气压 合金靶材 基底固定 技术优势 溅射沉积 溅射电源 微纳器件 靶基距 预溅射 靶材 放入 清洗 测试 室内 应用 制造 | ||
【主权项】：
1.一种高电阻率合金薄膜材料的制备方法，其特征在于包括以下制备步骤：步骤（1）：室温下，将基底浸入丙酮溶液中超声清洗10~20 min，取出基底再放入乙醇溶液中超声清洗10~20 min，至表面清洁，取出基底，用氮气吹干；步骤（2）：将步骤（1）所得基底固定在样品台上，放入磁控溅射室，调节靶基距为40 mm~80 mm；步骤（3）：将CoCrFeNi合金靶材或由Fe、Ni、Co、Cr组合靶材安装在磁控溅射室内；步骤（4）：将磁控溅射室进行抽真空处理，并达到本底真空；步骤（5）：将步骤（4）处理后的磁控溅射室通入工作气体，调节真空度到工作气压，启动溅射电源，进行预溅射，所述预溅射的工作条件为：氩气流量为10~50 sccm，工作气压为0.1~1.0 Pa，溅射功率为30~200 W，预溅射时间为10~15 min；再对基底进行溅射沉积制得合金薄膜材料，所述溅射沉积的工作条件为：氩气流量为10~50 sccm，工作气压为0.1~1.0 Pa，溅射功率为30~100 W，溅射时间为60~120 min。
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