[发明专利]全介质超薄二维圆偏振二色性器件的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810692085.2 申请日: 2016-06-25
公开(公告)号: CN108897088B 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 胡敬佩;王钦华;赵效楠;朱爱娇;林雨;曹冰 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙周强;陶海锋
地址: 215137 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种全介质超薄二维圆偏振二色性器件的制备方法,能够实现直接产生圆偏振光和区分左右旋圆偏振光的作用。该结构包括基底与覆盖于基底之上刻蚀在介质层中的Z型通孔;本发明的起偏器在1.50μm‑1.61μm波段圆二色性平均在70%以上,在1.53μm处圆二色性最高可达到98.3%,并具波段较宽,结构简单,易于制作的特点,在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中,具有很大的应用价值。
搜索关键词: 介质 超薄 二维 偏振 二色性 器件 制备 方法
【主权项】:
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