[发明专利]一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法在审
| 申请号： | 201810691504.0 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN109086481A | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 唐国益;张嘉瑛;胡舜杰;陈敏敏;林晓珊;蔡文必;林志东 | 申请（专利权）人： | 厦门市三安集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 李雁翔;张迪 |
| 地址： | 361000 福建省厦门*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，包括如下步骤：1)导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；2)检查：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3)显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同。上述的方法，不需要人工一条规则一条规则的审查、截图、制作报告。 | ||
| 搜索关键词： | 错误信息 设计规则 坐标点 集成电路设计 图像 审查 程序档案 导入系统 检查结果 图像叠加 直接显示 检查 调取 优化 还原 储存 制作 | ||
【主权项】：
1.一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于包括如下步骤：1)导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；2)检查：具体分为如下几个子步骤：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3)显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同，生成GDS格式的DRC结果报告。
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