[发明专利]同步回旋加速器中旋转电容转子的电接触方法及其结构有效
| 申请号： | 201810682303.4 | 申请日： | 2018-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN108834301B | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 李鹏展;张天爵;尹蒙;纪彬;邢建升 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | H05H13/02 | 分类号： | H05H13/02 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 曹晓斐 |
| 地址： | 10241*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种同步回旋加速器中旋转电容转子的电接触结构，其技术方案要点包括电容真空室、转动设置于电容真空室内的电容转子以及固定连接于电容转子一端用于驱动电容转子转动的转轴，所述电容转子包括设置于中部的圆盘部以及沿圆盘部周向外侧分布的叶片部，所述转轴上设置有与圆盘部设有间隔的接电转盘，所述圆盘部和接电转盘之间压接有接电铜网；所述接电转盘远离圆盘部的一侧与电容真空室侧壁之间设置有用于进行高频接地的平面窄间隙，本发明具有在高速旋转条件下能够稳定实现电接触的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 同步回旋加速器 旋转 电容 转子 接触 方法 及其 结构 | ||
【主权项】：
1.一种同步回旋加速器中旋转电容转子的电接触方法，其特征在于：将转轴(6)和电容转子(5)电接触；在转轴(6)上设置接电转盘(62)；在电容真空室(2)内设置与接电转盘(62)具有间隙小于0.2mm的平面窄间隙(8)，构成接地电容。
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