[发明专利]金刚线多晶硅片表面织构化加工方法在审
申请号: | 201810671760.3 | 申请日: | 2018-06-26 |
公开(公告)号: | CN110649105A | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 王懿喆;易武雄;潘鼎鼎;张卫 | 申请(专利权)人: | 上海硅洋新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 31297 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 邓文武 |
地址: | 201306 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种金刚线多晶硅片表面织构化加工方法,包括如下步骤:S1:对金刚线多晶硅片的一侧表面进行均匀喷砂处理,在该侧面形成太阳光的入射面;S2:将步骤S1处理后的金刚线多晶硅片放入腐蚀液内进行腐蚀处理,所述腐蚀液包括4‑10%的氢氟酸,30‑50%的硝酸,0.01‑0.05%的表面活性剂,0.01‑0.5%的缓蚀剂,和0.01‑0.5%的稳定剂,其余为去离子水。本发明能够将金刚线切割应用于多晶硅片的表面织构化加工中,具有减反射效果显著、外观形貌均匀、成本低廉、清洁环保的特点。 | ||
搜索关键词: | 多晶硅片 金刚线 表面织构化 腐蚀液 表面活性剂 减反射效果 腐蚀处理 喷砂处理 清洁环保 去离子水 外观形貌 硝酸 缓蚀剂 氢氟酸 入射面 太阳光 稳定剂 线切割 放入 加工 侧面 应用 | ||
【主权项】:
1.一种金刚线多晶硅片表面织构化加工方法,其特征在于包括如下步骤:/nS1: 对金刚线多晶硅片的一侧表面进行喷砂处理,在该侧面形成太阳光的入射面;/nS2:将步骤S1处理后的金刚线多晶硅片放入腐蚀液内进行湿法处理,所述腐蚀液包括4-10%的氢氟酸,30-50%的硝酸,0.01-0.05%的表面活性剂,0.01-0.5%的缓蚀剂和0.01-0.5%的稳定剂,其余为去离子水。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的