[发明专利]金刚线多晶硅片表面织构化加工方法在审

专利信息
申请号: 201810671760.3 申请日: 2018-06-26
公开(公告)号: CN110649105A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 王懿喆;易武雄;潘鼎鼎;张卫 申请(专利权)人: 上海硅洋新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/18
代理公司: 31297 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 邓文武
地址: 201306 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种金刚线多晶硅片表面织构化加工方法,包括如下步骤:S1:对金刚线多晶硅片的一侧表面进行均匀喷砂处理,在该侧面形成太阳光的入射面;S2:将步骤S1处理后的金刚线多晶硅片放入腐蚀液内进行腐蚀处理,所述腐蚀液包括4‑10%的氢氟酸,30‑50%的硝酸,0.01‑0.05%的表面活性剂,0.01‑0.5%的缓蚀剂,和0.01‑0.5%的稳定剂,其余为去离子水。本发明能够将金刚线切割应用于多晶硅片的表面织构化加工中,具有减反射效果显著、外观形貌均匀、成本低廉、清洁环保的特点。
搜索关键词: 多晶硅片 金刚线 表面织构化 腐蚀液 表面活性剂 减反射效果 腐蚀处理 喷砂处理 清洁环保 去离子水 外观形貌 硝酸 缓蚀剂 氢氟酸 入射面 太阳光 稳定剂 线切割 放入 加工 侧面 应用
【主权项】:
1.一种金刚线多晶硅片表面织构化加工方法,其特征在于包括如下步骤:/nS1: 对金刚线多晶硅片的一侧表面进行喷砂处理,在该侧面形成太阳光的入射面;/nS2:将步骤S1处理后的金刚线多晶硅片放入腐蚀液内进行湿法处理,所述腐蚀液包括4-10%的氢氟酸,30-50%的硝酸,0.01-0.05%的表面活性剂,0.01-0.5%的缓蚀剂和0.01-0.5%的稳定剂,其余为去离子水。/n
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