[发明专利]基于灰度处理的微结构纹理刻画方法有效
| 申请号： | 201810631235.9 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109001959B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 丰立昱;姚俊俊;孙浩 | 申请（专利权）人： | 广东彩辰光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人： | 程开生 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，包括如下步骤：确定微结构的最大顶角和最小顶角；输入一副灰度图像；根据公式计算灰度图像的像素灰度值计算微结构的顶角；确定微结构的底面尺寸：确定所需要的图像分辨率，根据该图像分辨率，确定微结构的底面尺寸；采用曝光显影的方法在光刻胶板上刻画呈凹陷的微结构的纹理。本发明所涉及的一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，在根据亮度确定微结构最大顶角和最小顶角后、分辨率确定微结构的底面尺寸，来代替当前像素。使得不同的灰度值的像素用不同顶角的棱锥或圆锥来代替，能够产生具有特殊的光影效果。使得微结构纹理刻画方法所制作的图像产品更为简便高效，而图案更为清晰。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 灰度 处理 微结构 纹理 刻画 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)确定微结构的最大顶角αmax和最小顶角αmin；(2)输入一副灰度图像；(3)根据灰度图像的像素灰度值计算微结构的顶角，按照如下公式进行计算：αc＝g*(αmax‑αmin)/gmax+αmin；其中，αc为微结构的顶角，g为当前像素的灰度值，αmax为微结构的最大顶角，αmin为微结构的最小顶角，gmax为灰度的最大值；(4)确定微结构的底面尺寸：确定所需要的图像分辨率，根据该图像分辨率下像素的大小，确定微结构的底面尺寸；(5)采用曝光显影的方法在光刻胶板上刻画呈凹陷的步骤(4)所确定的微结构的纹理。
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