[发明专利]基于灰度处理的微结构纹理刻画方法

说明书

本发明公开了一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，包括如下步骤：确定微结构的最大顶角和最小顶角；输入一副灰度图像；根据公式计算灰度图像的像素灰度值计算微结构的顶角；确定微结构的底面尺寸：确定所需要的图像分辨率，根据该图像分辨率，确定微结构的底面尺寸；采用曝光显影的方法在光刻胶板上刻画呈凹陷的微结构的纹理。本发明所涉及的一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，在根据亮度确定微结构最大顶角和最小顶角后、分辨率确定微结构的底面尺寸，来代替当前像素。使得不同的灰度值的像素用不同顶角的棱锥或圆锥来代替，能够产生具有特殊的光影效果。使得微结构纹理刻画方法所制作的图像产品更为简便高效，而图案更为清晰。

技术领域

本发明涉及图像处理技术领域，尤其是一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法。

背景技术

在LED或其他显像的电子产品中，有时需要其能够显示有特殊的光影效果。常规的制作方法步骤较为繁琐，成本高，效率低，且制作的具有特殊光影效果的图像产品不够清晰。而且现在的具有特殊光影效果的图像产品所发出的光线亮度较高，对人眼的损害作用较大。

发明内容

本发明的目的是提供一种种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，能够较为简便高效的制作具有特殊光影效果的图像产品。

为解决上述技术问题，本发明的目的是这样实现的：

本发明所涉及的一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，包括如下步骤：

(1)确定微结构的最大顶角α_max和最小顶角α_min；

(2)输入一副灰度图像；

(3)根据灰度图像的像素灰度值计算微结构的顶角，按照如下公式进行计算：

α_c＝g*(α_max-α_min)/g_max+α_min；

其中，α_c为微结构的顶角，g为当前像素的灰度值，α_max为微结构的最大顶角，α_min为微结构的最小顶角，g_max为灰度的最大值；

(4)确定微结构的底面尺寸：确定所需要的图像分辨率，根据该图像分辨率下像素的大小，确定微结构的底面尺寸；

(5)采用曝光显影的方法在光刻胶板上刻画呈凹陷的步骤(4)所确定的微结构的纹理。

作为上述方案的进一步说明，所述的微结构为棱锥或圆锥；当微结构为棱锥时，所述的顶角为相对侧面经过顶点朝向底面的夹角；当微结构为棱锥时，像素的大小为棱锥底面的边长；当微结构为圆锥时，像素的大小为圆锥底面的直径。

作为上述方案的进一步说明，步骤(1)中确定微结构的最大顶角α_max和最小顶角α_min的方法为，首先确定亮度范围，即确定最大亮度值和最小亮度值；再排列相同微结构，改变微结构的顶角使得亮度值达到最大亮度值或最小亮度值，所对应的最大角度为最大顶角α_max，所对应的最小角度为最小顶角α_min。

作为上述方案的进一步说明，步骤(2)和(3)中，灰度图像采用256阶灰度，g_max为255。

作为上述方案的进一步说明，步骤(4)中，所确定的图像分辨率为500-1000dpi。

作为上述方案的进一步说明，所述的光刻胶板为表面涂有感光胶层的玻璃板。

作为上述方案的进一步说明，所述的最大顶角α_max为160°，最小顶角α_min为120°。