[发明专利]一种基于近场稀疏成像外推的目标RCS测量方法

摘要

本发明公开了一种基于近场稀疏成像外推的目标RCS测量方法，采用稀疏重建算法进行目标高分辨成像，生成图像中非零像素即为目标的散射中心，避免了CLEAN算法迭代过程带来的积累误差问题，并且在稀疏字典构造过程中考虑天线方向图和距离衰减因素，提高了RCS测量的精度。

主权项

1.一种基于近场稀疏成像外推的目标RCS测量方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：设定近场测量参数：包括近场测量的测试频率、测试角度、天线到转台中心的距离R0，确定测试天线方向图参数G2(θ,f)；步骤2：根据设定的近场测量的测试频率、测试角度、天线到转台中心距离R0和天线方向图参数构建反映目标实际散射特性的稀疏字典；步骤3：在近场测试条件下，根据设定的测量参数检测不同频率、不同方位角度下的空暗室和目标近场散射信号数据；步骤4：在与步骤3同样的测试条件下，利用转台获得不同频率、不同方位角度下的空暗室和定标体散射数据；步骤5：将步骤3和4测量的散射数据进行预处理；步骤6：将处理后的数据利用稀疏重建算法分别生成目标高分辨图像和定标体高分辨图像；步骤7：根据步骤6生成的目标高分辨图像和定标体高分辨图像分别计算目标的远场散射场和定标体的重建散射场；步骤8：通过定标体的RCS根据计算的目标体的远场散射数据和定标体的重建散射场计算目标体的RCS。