[发明专利]一种低温化学镍槽体沉积镍层褪除溶液及褪镍层的方法在审
| 申请号： | 201810620976.7 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN108754498A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 雷雨辰;单丙辉;高原 | 申请（专利权）人： | 西安微电子技术研究所 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低温化学镍槽体沉积镍层褪除溶液及褪镍层的方法，将硫酸、DETA以及双氧水溶入水中反应得到，按照硫酸、二乙烯三胺、双氧水和水的总体积计，硫酸的积分数为3％～6％，双氧水的体积分数为5％～15％，DETA的质量浓度为5g/L～10g/L，其余为水；其中硫酸、二乙烯三胺和双氧水均为行业内常用药剂，采用本发明所述退镀液的常态褪镍速度为240μ"/min～320μ"/min；实现了低温化学镍等槽体中沉积镀镍层的快速褪除，适用于低温化学镍小批量间歇生产时的槽体维护。 | ||
| 搜索关键词： | 双氧水 低温化学 硫酸 二乙烯三胺 沉积镍层 槽体 镍槽 镍层 间歇生产 体积分数 镀镍层 退镀液 小批量 常态 沉积 水中 维护 | ||
【主权项】：
1.一种低温化学镍槽体沉积镍层褪除溶液，其特征在于，其特征在于，将硫酸、DETA以及双氧水溶入水中反应得到，按照硫酸、二乙烯三胺、双氧水和水的总体积计，硫酸的积分数为3％～6％，双氧水的体积分数为5％～15％，DETA的质量浓度为5g/L～10g/L，其余为水。
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