[发明专利]一种盖带结构在审
| 申请号： | 201810618958.5 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN108584148A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 刘兴乐 | 申请（专利权）人： | 广州市中载电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B65D73/02 | 分类号： | B65D73/02;B65D85/86 |
| 代理公司： | 广州致信伟盛知识产权代理有限公司 44253 | 代理人： | 伍嘉陵;胡琴 |
| 地址： | 511450 广东省广州市番*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种盖带结构，包括两层基材薄膜层，所述两层基材薄膜层通过第一胶黏层连接为一体，在其中一层基材薄膜层未设置第一胶黏层的表面上设置有第二胶黏层，在第二胶黏层上沿其长度方向上设置有两条相对称的切口，所述切口的深度由第二胶黏层伸入到与第二胶黏层连接的基材薄膜层中。该盖带结构具有稳定且均匀的剥离强度。 | ||
| 搜索关键词： | 胶黏层 基材薄膜层 盖带 两层 连接为一体 伸入 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种盖带结构，其特征在于：包括两层基材薄膜层(1)，所述两层基材薄膜层(1)通过第一胶黏层(2)连接为一体，在其中一层基材薄膜层(1)未设置第一胶黏层(2)的表面上设置有第二胶黏层(3)，在第二胶黏层(3)上沿其长度方向上设置有两条相对称的切口(4)，所述切口(4)的深度由第二胶黏层(3)伸入到与第二胶黏层(3)连接的基材薄膜层(1)中。
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