[发明专利]基于金属薄膜-核壳等离子体结构的宽带完美吸收体有效

专利信息
申请号: 201810612648.2 申请日: 2018-06-14
公开(公告)号: CN108919391B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 王晓莉;李洪东;唐智勇 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02B1/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君;王文红
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种基于金属薄膜‑核壳等离子体结构的宽带完美吸收体,包括基底;其是设置在基底之上的多层结构,从基底往上依次为金属膜层和核壳纳米颗粒薄膜层,所述核壳纳米颗粒薄膜层由具有局域表面等离子体共振特性的核壳颗粒组成,所述核壳颗粒是以贵金属为核、半导体为壳而构成。本发明还提供所述宽带完美吸收体的制备方法。本发明提出的吸收体结构简单,基底可选,且金属薄膜可为金、银、铜薄膜等,利用液‑液界面自组装成膜,操作方便,面积可控,适用于多种贵金属与半导体的复合物,且制作成本较低。
搜索关键词: 基于 金属 薄膜 等离子体 结构 宽带 完美 吸收体
【主权项】:
1.一种基于金属薄膜‑核壳等离子体结构的宽带完美吸收体,包括基底;其特征在于,是设置在基底之上的多层结构,从基底往上依次设置金属膜层和核壳纳米颗粒薄膜层,所述核壳纳米颗粒薄膜层由具有局域表面等离子体共振特性的核壳颗粒组成,所述核壳颗粒是以贵金属为核、半导体为壳而构成。
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