[发明专利]一种量子点及其合成方法在审
| 申请号： | 201810586981.0 | 申请日： | 2018-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN108641720A | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 刘珊;蒋秀琴;雷双全 | 申请（专利权）人： | 嘉兴纳鼎光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/88 | 分类号： | C09K11/88 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王茹;王锋 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉兴市海宁市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种量子点及其合成方法。所述合成方法包括：合成量子点核的第一步骤、在所述量子点核包覆至少一过渡层的第二步骤，以及，在所述过渡层上包覆壳层的第三步骤；其特征在于还包括：在第一步骤中，以无机酸对量子点核进行刻蚀；和/或，在第二步骤中，以无机酸对至少一过渡层进行刻蚀；和/或，在第三步骤中，以无机酸对壳层进行刻蚀；其中，所述无机酸所含的卤素阴离子、H+分别来源于第一步骤、第二步骤或第三步骤的反应体系内的卤素无机盐、胺类物质。本发明在合成过程中采用无机酸对量子点进行刻蚀，去除了量子点在合成过程中的各向异性，方法更加安全可控，可提高量子点的荧光量子产率，还可以提高其光学、化学和热稳定性能。 | ||
| 搜索关键词： | 量子点 无机酸 刻蚀 过渡层 合成 合成过程 荧光量子产率 无机盐 卤素阴离子 热稳定性能 胺类物质 包覆壳层 包覆 对壳 可控 安全 | ||
【主权项】：
1.一种量子点的合成方法，包括：合成量子点核的第一步骤、在所述量子点核包覆至少一过渡层的第二步骤，以及，在所述过渡层上包覆壳层的第三步骤；其特征在于还包括：在第一步骤中，以无机酸对量子点核进行刻蚀；和/或，在第二步骤中，以无机酸对至少一过渡层进行刻蚀；和/或，在第三步骤中，以无机酸对壳层进行刻蚀；其中，所述无机酸所含的卤素阴离子、H+分别来源于第一步骤、第二步骤或第三步骤的反应体系内的卤素无机盐、胺类物质。
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