[发明专利]一次曝光实现任意分布的光取向装置及一种光学元件的制备方法在审
| 申请号： | 201810583633.8 | 申请日： | 2018-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN108594538A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 李燕;苏翼凯 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G02F1/13363 | 分类号： | G02F1/13363;G02F1/1337;G02F1/137 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 黄超宇;胡晶 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一次曝光实现任意分布的光取向装置及一种光学元件的制备方法，包括在空间上顺序摆放的光源、线性极化膜、像素化电控相位延迟器件和相位延迟波片，光源用于提供光取向曝光所需的光；线性极化膜用于将光源发出的光变成极化方向与线性极化膜透光轴方向平行的线性极化光；像素化电控相位延迟器件的每个像素的相位延迟由对应的电压分别控制，用于产生任意图形分布的相位延迟；相位延迟片用于产生非像素化的相位延迟。本发明通过设计线性极化膜、像素化电控相位延迟器件、相位延迟波片的相对光轴方向，和各个相位延迟器件的相位延迟值，可以生成任意形状的极化图，并在极化敏感介质上形成相应的排列轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 相位延迟器件 线性极化 相位延迟 光取向 像素化 电控 光源 相位延迟波片 光学元件 一次曝光 制备 线性极化光 相位延迟片 方向平行 非像素化 光轴方向 极化方向 敏感介质 顺序摆放 极化图 透光轴 极化 像素 曝光 | ||
【主权项】：
1.一次曝光实现任意分布的光取向装置，其特征在于，包括在空间上顺序摆放的光源、线性极化膜、像素化电控相位延迟器件和相位延迟波片，其中：所述光源用于提供光取向曝光所需的光；所述线性极化膜用于将所述光源发出的光变成极化方向与线性极化膜透光轴方向平行的线性极化光；所述像素化电控相位延迟器件的每个像素的相位延迟由对应的电压分别控制，用于产生任意图形分布的相位延迟；所述相位延迟片用于产生非像素化的相位延迟。
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