[发明专利]一种低反射红外截止滤光片的制备技术在审
| 申请号： | 201810573943.1 | 申请日： | 2018-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN108802883A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 奂微微;冯海亮 | 申请（专利权）人： | 湖北五方光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G03B11/00 |
| 代理公司： | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人： | 杨文录 |
| 地址： | 434000 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开的属于低反射红外截止滤光片技术领域，具体为一种低反射红外截止滤光片的制备技术，该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上；S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片，本方案调整红外截止滤光片的镀膜工艺，优化膜系配比，达到同时降低0°和30°条件下的反射率，制备方案简单，制备成品效果较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 红外截止滤光片 制备 氟化镁薄膜 低反射 电子束蒸镀 镀膜 基材 高低折射率材料 低折射率材料 高折射率材料 镜片表面处理 基材表面镀 镀膜工艺 方案调整 基材表面 交替镀膜 磨光 反射率 光滑度 后表面 镜片 膜系 配比 成型 优化 | ||
【主权项】：
1.一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上；S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片。
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