[发明专利]一种制备铝氮共掺类金刚石复合薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201810556974.6 申请日: 2018-06-01
公开(公告)号: CN108677144B 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 周兵;刘竹波;高洁;于盛旺;王志峰;徐斌 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/32
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 申艳玲
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种制备铝氮共掺类金刚石复合薄膜的方法。采用离子源辅助阴极电弧沉积技术,配置两个不同特性的双激发源阴极电弧镀膜装置,其中一个为直流电弧蒸发阴极源,用于安装铝靶材,另一个为脉冲电弧蒸发阴极源,用于安装石墨靶;沉积过程中以氮气作为反应气体,利用离子源将氮气(N2)电离为离子氮(N+),通过旋转工件,使安装在直流电弧蒸发阴极源和脉冲电弧蒸发阴极源的的铝靶和石墨靶,实现在工件表面的溅射沉积,获得成分可控的铝氮共掺类金刚石复合薄膜。本发明中,N以离子形式掺入,促使类金刚石复合薄膜中形成硬质氮化铝(AlN)和金属Al纳米晶颗粒;具有表面光滑、高硬度、高韧性、低应力的优点。
搜索关键词: 一种 制备 铝氮共掺类 金刚石 复合 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种制备铝氮共掺类金刚石复合薄膜的方法,其特征在于:采用离子源辅助阴极电弧沉积技术,配置两个不同特性的双激发源阴极电弧镀膜装置,其中一个为直流电弧蒸发阴极源,用于安装铝靶材,另一个为脉冲电弧蒸发阴极源,用于安装石墨靶;薄膜沉积之前,先通入Ar和N2混合气体,采用离子源对工件表面进行溅射清洗;薄膜沉积过程中,以氮气作为反应气体,利用离子源将氮气电离为离子氮,通过旋转工件,使安装在直流电弧蒸发阴极源和脉冲电弧蒸发阴极源的的铝靶和石墨靶,实现在工件表面的溅射沉积,获得成分可控的包含AlN纳米颗粒强化相、单质Al纳米颗粒增韧相的铝氮共掺类金刚石复合薄膜。
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