[发明专利]一种X射线波带片的制备方法有效
| 申请号： | 201810556195.6 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN108806819B | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 卢维尔;夏洋;孔祥东;韩立;李艳丽;门勇 | 申请（专利权）人： | 嘉兴科民电子设备技术有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 刘杰 |
| 地址： | 314006 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X射线波带片的制备方法，包括如下步骤：根据所需波带片的厚度和直径制备带有圆孔的支撑体；在所述支撑体上制备掩模板，所述掩模板为直径比所述支撑体的圆孔直径稍大的圆形结构；在支撑体两面旋涂光刻胶或者采用喷胶的方式进行旋涂，进行曝光显影，所述支撑体上的圆孔部分光刻胶被显影；在带有圆孔的所述支撑体表面采用原子层沉积技术交替沉积第一薄膜材料和第二薄膜材料作为波带片逐层递减的薄膜环带结构；将所述支撑体边缘沉积的薄膜材料刻蚀掉；清洗所述支撑体上的光刻胶；将所述支撑体上圆孔附近多余的薄膜材料刻蚀掉。本发明采用原子层沉积技术可以获得小的最外环宽度，控制精度可以达到纳米级别。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 波带片 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种X射线波带片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：根据所需波带片的厚度和直径制备带有圆孔的支撑体；在所述支撑体上制备掩模板，所述掩模板为直径比所述支撑体的圆孔直径稍大的圆形结构；在支撑体两面旋涂光刻胶或者采用喷胶的方式进行旋涂，进行曝光显影，所述支撑体上的圆孔部分光刻胶被显影；在带有圆孔的所述支撑体表面采用原子层沉积技术交替沉积第一薄膜材料和第二薄膜材料作为波带片逐层递减的薄膜环带结构；将所述支撑体边缘沉积的薄膜材料刻蚀掉；清洗所述支撑体上的光刻胶；将所述支撑体上圆孔附近多余的薄膜材料刻蚀掉。
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