[发明专利]一种非球面光学元件表面紫外预处理轨迹的规划方法有效
| 申请号： | 201810554052.1 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN108732185B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 陈明君;赵林杰;程健;吴春亚;袁晓东;廖威;刘启;杨浩;王海军 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/958;B23K26/70 |
| 代理公司： | 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 | 代理人： | 岳昕 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明提供一种非球面光学元件表面紫外预处理轨迹的规划方法，属于工程光学技术领域。本发明首先以非球面光学元件非球面的顶点为原点、以回转曲线旋转轴为Z轴、以非球面光学元件侧边平行方向为Y轴、以非球面光学元件出光面平行方向为X轴建立加工坐标系，并得到入光面的非球面方程，设置紫外激光预处理过程的加工参数，所述加工参数包括光斑大小、加工速度以及光斑重叠率；然后分别计算X、Y和Z轴的补偿函数；最后根据得到的补偿函数计算扫描设备的运动函数。本发明解决了现有紫外预处理技术出光面光斑的大小不恒定，导致紫外预处理效果差的问题。本发明可用于紫外激光预处理非球面光学元件，暴露亚表层缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 球面 光学 元件 表面 紫外 预处理 轨迹 规划 方法 | ||
【主权项】：
1.一种非球面光学元件表面紫外预处理轨迹的规划方法，其特征在于，所述方法具体包括以下步骤：步骤一、以非球面光学元件非球面的顶点为原点、以回转曲线旋转轴为Z轴、以非球面光学元件侧边平行方向为Y轴、以非球面光学元件出光面平行方向为X轴建立加工坐标系，并得到入光面的非球面方程；步骤二、设置紫外激光预处理过程的加工参数，所述加工参数包括光斑大小、加工速度以及光斑重叠率；步骤三、分别计算X、Y和Z轴的补偿函数；所述补偿函数是由于光学元件非球面的存在导致的光路偏差；步骤四、根据步骤三中得到的补偿函数计算扫描设备的运动函数。
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