[发明专利]全息光学元件及其制作方法、像重建方法、增强现实眼镜有效
| 申请号： | 201810549783.7 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110554593B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 张洪术;赵合彬;邱云;王丹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03H1/12 | 分类号： | G03H1/12;G03H1/22;G02B30/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种全息光学元件及其制作方法、像重建方法、增强现实眼镜，涉及图像显示领域。该全息光学元件包括基材及记录材料层，记录材料层中记录有至少两组干涉条纹，每组干涉条纹包括第一干涉条纹和第二干涉条纹；第一干涉条纹由分别从记录材料层两侧入射的第一信号光和第一参考光形成；第二干涉条纹由分别从记录材料层两侧入射的第二信号光和第二参考光形成，且第二信号光在入射前经过透镜；第一信号光的入射角与第二参考光的入射角相等；各组干涉条纹对应的第一信号光的入射方向各不相同，且各组干涉条纹对应的第二信号光在入射前所经过的透镜的焦距各不相等。利用本发明的方法制作和进行像重建的全息光学元件可以成多个景深的像。 | ||
| 搜索关键词： | 全息 光学 元件 及其 制作方法 重建 方法 增强 现实 眼镜 | ||
【主权项】：
1.一种全息光学元件，包括基材，及设置于所述基材上的记录材料层，其特征在于，所述记录材料层中记录有至少两组干涉条纹，每组所述干涉条纹包括第一干涉条纹和第二干涉条纹；所述第一干涉条纹由分别从所述记录材料层两侧入射的第一信号光和第一参考光形成；所述第二干涉条纹由分别从所述记录材料层两侧入射的第二信号光和第二参考光形成，且所述第二信号光在入射前经过透镜；/n所述第一信号光的入射角与所述第二参考光的入射角相等；/n各组所述干涉条纹对应的第一信号光的入射方向各不相同，且各组所述干涉条纹对应的第二信号光在入射前所经过的透镜的焦距各不相等。/n
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