[发明专利]浸槽及供液系统

摘要

本发明提供一种浸槽，包括第一主体、第二主体和回流部，第一主体和第二主体相对设置，且第一主体、第二主体和回流部共同围合形成容腔，回流部设于第一主体和第二主体的底部，容腔用于盛装清洗液，第一主体内设有第一空腔，第一主体上还设有第一流道，第一空腔与容腔通过第一流道联通，第一空腔用于储存清洗液，第一流道用于将第一空腔内的清洗液输送至容腔，口金的喷嘴浸泡在容腔内的清洗液内，回流部设有阀门，通过控制阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，回流部流出的清洗液用于输送至第一空腔以循环使用。通过上述设置，可加快清洗液流动速度，对口金的喷嘴冲刷更剧烈，提升清洗效果。本发明还提供了一种供液装置。

主权项

1.一种浸槽，用于浸泡和清洗口金的喷嘴，其特征在于，包括第一主体、第二主体和回流部，所述第一主体和所述第二主体相对设置，且所述第一主体、所述第二主体和所述回流部共同围合形成容腔，所述回流部设于所述第一主体和所述第二主体的底部，所述容腔用于盛装清洗液，所述第一主体内设有第一空腔，所述第一主体上还设有第一流道，所述第一空腔与所述容腔通过所述第一流道联通，所述第一空腔用于储存清洗液，所述第一流道用于将所述第一空腔内的清洗液输送至所述容腔，所述口金的喷嘴浸泡在所述容腔内的清洗液内，所述回流部设有阀门，通过控制所述阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，所述回流部流出的清洗液用于输送至所述第一空腔以循环使用。