[发明专利]集成成像装置以及具有其的显示设备有效

专利信息
申请号: 201810508616.8 申请日: 2018-05-24
公开(公告)号: CN108519681B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 魏宝强;谭纪风;陈小川;赵文卿;董学;陈祯祐;牛小辰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B30/27 分类号: G02B30/27;G02F1/13;G02F1/1343
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种集成成像装置以及具有其的显示设备,集成成像装置包括:显示件、透镜阵列以及入射光调节件,其中,显示件用于显示图像阵列;透镜阵列包括:多个第一透镜和第二透镜,多个第一透镜在平行于显示件的平面上分布,第二透镜和显示件分别位于第一透镜的两侧,第二透镜、透镜阵列、显示件同轴设置;入射光调节件的折射率可调节,入射光调节件在轴向上位于显示件与透镜阵列之间,入射光调节件被构造成可减小显示件的发出的光线的像素发散角。由此,通过在显示件与透镜阵列之间设置入射光调节件,使入射光的像素发散角可被调节,从而使更多的入射光折射到再现景深中线平面附近,以有效地扩展再现景深,从而提高集成成像装置的成像效果。
搜索关键词: 集成 成像 装置 以及 具有 显示 设备
【主权项】:
1.一种集成成像装置,其特征在于,包括:显示件,所述显示件用于显示图像阵列;透镜阵列,所述透镜阵列包括:多个第一透镜,多个第一透镜在平行于所述显示件的平面上分布;第二透镜,所述第二透镜和所述显示件分别位于所述第一透镜的两侧,所述第二透镜、所述透镜阵列、所述显示件同轴设置;以及入射光调节件,所述入射光调节件的折射率可调节,所述入射光调节件在轴向上位于所述显示件与所述透镜阵列之间,所述入射光调节件被构造成可减小所述显示件的发出的光线的像素发散角。
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