[发明专利]高导热纳米铜—石墨膜复合材料的制备方法在审
申请号: | 201810499651.8 | 申请日: | 2018-05-23 |
公开(公告)号: | CN108823615A | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
发明(设计)人: | 沈田丰;李平;陆标 | 申请(专利权)人: | 嘉兴中易碳素科技有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38;C25D5/54;C09K5/14 |
代理公司: | 青岛泽为知识产权代理事务所(普通合伙) 37237 | 代理人: | 姚继伟 |
地址: | 314006 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种高导热纳米铜—石墨膜复合材料的制备方法,它包括以下具体步骤:(1)将石墨膜进行化学粗化处理;(2)将粗化处理后的石墨膜进行等离子体处理;(3)将等离子体处理后的石墨膜进行电镀铜处理;(4)将电镀铜处理后的石墨膜进行钝化处理,钝化处理后再进行清洗、烘干后获得高导热纳米铜—石墨膜复合材料产品。 | ||
搜索关键词: | 石墨膜 高导热 纳米铜 等离子体处理 粗化处理 钝化处理 复合材料 电镀铜 制备 复合材料产品 烘干 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种高导热纳米铜—石墨膜复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下具体步骤:(1)、将石墨膜进行化学粗化处理:采用氢氧化钠溶液或者食人鱼溶液浸洗石墨膜,浸洗温度为20‑90℃,浸洗时间为1‑30min,然后采用去离子水冲洗石墨膜并烘干;(2)、将粗化处理后的石墨膜进行等离子体处理:所述等离子体处理是将气体离子化后直接轰击在膜表面,处理气氛为空气、氧气、氮气、氩气中的至少一种,处理速度为1‑10 m/min,处理1‑5遍;(3)、将等离子体处理后的石墨膜进行电镀铜处理:采用无氰碱性镀铜或者氰化镀铜方法进行电镀铜处理,镀层厚度为50‑800 nm;(4)、将电镀铜处理后的石墨膜进行钝化处理,钝化处理后再进行清洗、烘干后获得高导热纳米铜—石墨膜复合材料产品。
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