[发明专利]一种基于光学性能调制的电离辐射检测方法及系统有效
| 申请号： | 201810497329.1 | 申请日： | 2018-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN108693550B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 许剑锋;王宇黎;李颖洁 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01T1/16 | 分类号： | G01T1/16 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于光学性能调制的电离辐射检测方法及系统，包括：在包含电离辐射源的检测对象周围放置多对检测模块，每对检测模块位于检测对象的相对位置，每个检测模块包括一个电光晶体和一个探测器，电离辐射源所发出的辐射粒子进入检测对象后湮灭产生多对运动方向相反的γ光子；对每个电光晶体入射泵浦光，则泵浦光在电光晶体前后两个抛光的平行反射面反射，将前后两个反射面的反射光束聚焦产生干涉条纹，若γ光子到达电光晶体，电光晶体的折射率发生改变，则干涉条纹发生移动；探测器根据每对γ光子引起的对应两个干涉条纹发生移动的时间差反解出电离辐射源湮灭点的位置，进而对检测对象进行图像重建。本发明提高了PET检测效率。 | ||
| 搜索关键词： | 电光晶体 检测对象 电离辐射源 干涉条纹 检测模块 光子 电离辐射 发生移动 光学性能 泵浦光 探测器 反射 调制 检测 运动方向相反 平行反射面 反射光束 图像重建 时间差 折射率 抛光 入射 粒子 聚焦 辐射 | ||
【主权项】：
1.一种基于光学性能调制的电离辐射检测方法，其特征在于，包括：在包含电离辐射源的检测对象周围放置多对检测模块，每对检测模块位于检测对象的相对位置，每个检测模块包括一个电光晶体和一个探测器，电离辐射源所发出的辐射粒子进入检测对象后湮灭产生多对运动方向相反的γ光子；每对检测模块与检测对象应呈一直线放置，且检测对象位于每对检测模块之间；对每个电光晶体入射泵浦光，则泵浦光在电光晶体前后两个抛光的平行反射面反射，将前后两个反射面的反射光束聚焦产生干涉条纹，若γ光子到达电光晶体，电光晶体的折射率发生改变，则干涉条纹发生移动；所述探测器根据每对γ光子引起的对应两个干涉条纹发生移动的时间差反解出电离辐射源湮灭点的位置，进而对检测对象进行图像重建。
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