[发明专利]除臭装置以及除臭方法有效
申请号: | 201810423901.X | 申请日: | 2018-05-04 |
公开(公告)号: | CN108970322B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 三宅岳;松田源一郎;北井崇博;山田芳生 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | B01D53/00 | 分类号: | B01D53/00;A61L9/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 韩丁 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够高效地产生等离子体并迅速地对液体进行改性、并且能够以短时间进行气体的除臭处理的除臭装置以及除臭方法。在处理槽(12)中使气相(G)产生等离子体(P)并生成改性成分,生成的改性成分在液体中溶解并在液体中分散来生成改性液(L2),生成的改性液被从处理槽排出并在贮留槽(90)中贮留,从气体提供部(94)向贮留槽内的改性液内提供气体(97)。被提供的气体成为泡状,与贮留于贮留槽的改性液接触并被除臭。 | ||
搜索关键词: | 除臭 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种除臭装置,具备:处理槽,通过使从导入部导入的液体在中心轴周围旋转,从而在所述液体的旋转流的旋转中心附近产生气相,并且具有使从所述导入部导入的所述液体在与所述导入部之间旋转从而产生所述旋转流之后作为改性液而排出的排出部;第1电极,至少一部分被配置在所述处理槽内并与所述处理槽内的所述液体接触;第2电极,被配置为与所述处理槽内的所述液体接触;电源,向所述第1电极与所述第2电极之间施加电压来使所述气相产生等离子体,从而在所述改性液中生成改性成分;贮留槽,具有与所述处理槽的所述排出部连接来提供所述改性液的改性液提供部、和向比所述改性液提供部更靠上部的位置排出除臭后的气体的气体排出部,在所述处理槽中使所述气相产生所述等离子体从而生成所述改性成分,所生成的所述改性成分在所述液体溶解并向所述液体中分散来生成所述改性液,所生成的所述改性液从所述处理槽排出而被贮留;和气体提供部,向所述贮留槽内的所述改性液内提供气体,从所述气体提供部向所述贮留槽内提供所述气体,被提供的所述气体成为泡状,与贮留于所述贮留槽的所述改性液接触并被除臭。
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