[发明专利]一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用有效
申请号: | 201810420400.6 | 申请日: | 2018-05-04 |
公开(公告)号: | CN108976361B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 白雪;潘建明;王盼;贾强 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | C08F285/00 | 分类号: | C08F285/00;C08F222/14;C08F220/56;C08F230/06;C08J9/26;B01J13/14;B01J20/26;B01J20/30 |
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地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用,尤其涉及蒸馏‑沉淀聚合制备单孔中空硼亲和分子印迹聚合物的方法,属于生物医药功能材料制备技术领域;本发明专利首先通过DPP利用4‑乙烯基苯硼酸单体引发聚合包覆在羧基封端的聚苯乙烯球模板表面;此外,在DPP的过程中,伴随的微相分离效应和壳材料的对称体积收缩诱导了聚合物壳中孔的产生,通过THF蚀刻带孔的聚合物壳即可获得单孔中空硼亲和印迹聚合物;然后将单孔中空硼亲和印迹聚合物密封在透析袋中用于选择性分离纯化LTL;本发明制备的单孔中空硼亲和印迹聚合物克服了现有常见分子印迹吸附剂对LTL吸附分离动力学低、饱和容量小和选择性差等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 单孔 中空 亲和 印迹 聚合物 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)羧基封端的聚苯乙烯(CPS)珠粒的合成:首先在苯乙烯水溶液中加入过硫酸铵酸性水溶液引发苯乙烯聚合,获得单分散聚苯乙烯珠粒;然后,将丙烯酸、苯乙烯、过硫酸铵逐步与单分散聚苯乙烯珠粒混合均匀,并进一步聚合得到羧基封端聚苯乙烯(CPS)珠粒;(2)单孔中空硼亲和印迹聚合物微球(H‑PAVM)的合成:将CPS珠粒、丙烯酰胺、4‑乙烯基苯基硼酸、LTL、乙二醇二甲基丙烯酸酯和偶氮二异丁腈溶于乙腈中,为了确保CPS珠粒的均匀分散,在聚合反应过程中磁力搅拌反应体系;通过自由基引发进行缓慢预聚合,随后,聚合/交联反应,然后产物进一步老化;通过离心和乙醇洗涤来获得具有单孔的核壳结构微球PAVM;最后用四氢呋喃从孔中将CPS核溶解去除,并用甲醇/乙酸混合溶剂去除LTL模板分子来制备单孔中空硼亲和印迹微球(H‑PAVM)。
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