[发明专利]一种自动曝光设备及其曝光方法在审
| 申请号： | 201810409751.7 | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN108614394A | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 党景涛;靳永吉;李霖;周庆奎;宫晨;孙明睿;芦刚 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 金相允 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种自动曝光设备，包括：工控机和分别与所述工控机连接的两个对准设备、曝光系统和物料系统；两个所述对准设备共用一套曝光系统和物料系统；所述物料系统包括：上料库和下料库；所述工控机，用于向自身连接的各个器件下发控制指令；两个所述对准设备，用于根据所述控制指令从所述上料库中获取原料基片，并对所述原料基片进行对准处理；以及，依次将曝光处理后的原料基片输送到所述下料库中；所述曝光系统，用于根据所述控制指令依次对两个所述对准设备对准处理后的原料基片进行曝光处理。采用两个对称的对准设备，能够使曝光系统不间断的依次对两个对准设备中的原料基片进行曝光处理，提高了光源的使用效率及设备的曝光效。 | ||
| 搜索关键词： | 对准设备 曝光系统 曝光处理 物料系统 工控机 自动曝光设备 控制指令 上料 下料 对准 基片输送 使用效率 下发控制 自身连接 曝光 光源 对称 指令 | ||
【主权项】：
1.一种自动曝光设备，其特征在于，包括：工控机和分别与所述工控机连接的两个对准设备、曝光系统和物料系统；两个所述对准设备共用一套曝光系统和物料系统；所述物料系统包括：上料库和下料库；所述工控机，用于向自身连接的各个器件下发控制指令；两个所述对准设备，用于根据所述控制指令从所述上料库中获取原料基片，并对所述原料基片进行对准处理；以及，依次将曝光处理后的原料基片输送到所述下料库中；所述曝光系统，用于根据所述控制指令依次对两个所述对准设备对准处理后的原料基片进行曝光处理。
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