[发明专利]脂肪族聚氨酯光学终点检测窗口和含有它们的CMP抛光垫有效

专利信息
申请号: 201810343549.9 申请日: 2018-04-17
公开(公告)号: CN108723983B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: N-R·邱;M·T·伊斯兰;G·C·雅各布 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
主分类号: B24B37/24 分类号: B24B37/24;B24B37/013;C08G18/75;C08G18/66;C08G18/48;C08G18/42;C08G18/32;C08G18/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种用于抛光例如半导体衬底的化学机械(CMP)抛光垫,具有一个或多个在2mm厚度下将具有325nm或更低波长下的UV截断的终点检测窗口(窗口),且所述化学机械(CMP)抛光垫是(A)30到56wt.%的一种或多种脂环族二异氰酸酯或多异氰酸酯与(B)43到69.9999的(i)平均分子量为500到1,500的聚合二醇,如用于硬质窗口的聚碳酸酯二醇和用于软质窗口的聚醚多元醇,与(ii)平均分子量为120到320的三醇的多元醇混合物,其中聚合二醇(B)(i)与三醇(B)(ii)的重量比在1.6:1到5.2:1范围内,以及催化剂的反应混合物的产物,所述催化剂优选仲胺或叔胺或新癸酸铋,所有重量百分数均以所述反应混合物的总固体重量计。
搜索关键词: 脂肪 聚氨酯 光学 终点 检测 窗口 含有 它们 cmp 抛光
【主权项】:
1.一种用于抛光选自磁性衬底、光学衬底以及半导体衬底中的至少一个的衬底的化学机械(CMP)抛光垫包含CMP抛光垫,所述CMP抛光垫具一个或多个在2mm厚度下将具有325nm或更低波长下的UV截断的终点检测窗口,且所述CMP抛光垫是(A)30到56wt.%的一种或多种脂环族二异氰酸酯或多异氰酸酯与(B)43到69.9999wt.%的(i)平均分子量为500到1,500的聚合二醇与(ii)平均分子量为120到320的三醇以聚合二醇(B)(i)与三醇(B)(ii)的重量比在1.6:1到5.2:1范围内的多元醇混合物以及催化剂的反应混合物的产物,所述催化剂选自呈0.00001到0.1wt.%的量的含锡催化剂,或呈0.01到1wt.%的量的胺催化剂,或呈0.00001到0.1wt.%的量的含铋催化剂,所有重量百分数均以所述反应混合物的总固体重量计。
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